半导体设备行业分析报告：真空泵，国产化趋势如何？

（报告出品方/作者：广发证券，周静，代川）

核心观点：

真空泵是制造业重要的通用设备，半导体应用占据最大份额，光伏高增长。 真空系统是用来获得真空环境的系统，是半导体、科学仪器、化工、制药行业重要的子系统，应用广泛。真空泵是真空系统重要的组成部分，是用来产生、改善和维持真空环境的装置。根据 ISVT，2019 年全球真空设备的市场规模约 350 亿元，其中半导体用真空设备约 135 亿元，占比约 38%，是最大的应用领域，此外光伏领域的真空泵需求正快速增长。

半导体行业存量真空泵的更新占据较大比例，保证需求稳定增长。 根据我们测算，2019 年全球半导体真空泵的设备与服务需求市场规模约 130 亿元，参考 IC sights 对全球晶圆产能的预测，预计到 2025 年市场规模可达到 217 亿元，复合增占率约 9%，保持温和增长，其中存量真空泵的更新占到整个设备市场的 60~70%，庞大的存量市场保证了半导体真空泵的稳定需求，减小了行业的波动性。根据我们测算，2019 年我国半导体真空泵的设备与服务需求规模约 31 亿元，2025 年预计可达到 57 亿元，维持稳定增长。

太阳能电池硅片、电池片、组件等环节大幅扩产，光伏真空泵市场规模快速扩张。 太阳能发电成本不断降低，需求进入上升期，根据硅业协会和我们的统计，预计硅片/电池片/组件等各环节 2021 年扩产规模均在 100GW 以上，拉晶、镀膜、层压等环节对真空泵均有需求，下游的大幅扩产预计将带动光伏行业真空泵市场规模的快速增长。同时，光伏行业现在面临 PERC+/TOPCon/HJT 等技术路线的分歧，设备降本对技术路线影响较大，设备降本的需求有利于进一步推进真空泵的国产化进程。根据我们的测算，2019 年我国光伏行业对真空泵的设备与服务需求规模约 21.7 亿元，预计至 2022 年可增至 55.5 亿元，复合年增长率达 36%。

行业高度集中，国内企业在光伏/半导体领域真空泵已实现国产突破。 全球半导体真空泵市场主要由 Edwards、 Kashiyama、Ebara 等少数几家国际知名公司占据，2019 年 Atlas 真空部门的收入约 26.9 亿美元，当年在真空领域的市占率约 53%，处于绝对领先地位。国内以汉钟精机、中科仪为代表的国内半导体真空泵优秀企业已逐步实现国产替代。汉钟精机 2019 年公司总收入 18.07 亿元，其中真空产品收入 3.69 亿元，占总收入的 20.43%，根据公司的业绩快报，2020 年营收总收入 22.73 亿元，同比增加 25.78%，维持高增速，目前公司的真空产品主要应用在光伏领域，根据公司 2019 年年报，公司干式真空泵在国内半导体及一线大厂及设备厂都已导入。根据中科仪的招股说明书，公司真空泵已进入隆基、晶盛、长江存储等光伏和半导体头部客户，产品力获认可， 2019 年公司销售真空干泵 2546 台，销售收入 1.57 亿元，同比增加 97.8%。

一、真空泵：重要通用设备，半导体应用占据主要份额

真空泵：真空系统的心脏，应用领域广泛。 真空泵是根据一定的工作原理，用来产生、改善和维持真空环境的装置，是直接影响到真空成套设备性能质量的必不可少的产品。真空泵广泛应用于制药、化工、食品、电子等下游行业，需求量大面广。

通常真空范围可划分三个等级：（1）粗低真空（Low or Rough Vacuum,LV），气压在760至10-3Torr，主要适用于食品、化工、轻工、制药行业等；（2）高真空（High Vacuum，HV），气压在10-3至10-8Torr，主要适用于集成电路、半导体制造以及各种镀膜工艺、各种表面加工工艺、离子注入等等；（3）超高真空（Ultra-High Vacuum， UHV），气压在10-8至10-12Torr，主要适用于材料科学分析、物理现象研究、表面分析高纯材料制备等等。

真空泵从高/超真空到粗/低真空，其产品大致可分14大类：（1）高/超真空----低温泵、分子泵、溅射离子泵、钛升华泵、扩散泵。（2）中真空----干泵、双级旋片泵、罗茨泵、油增压泵、水蒸气喷射泵。（3）粗/低真空----单级旋片泵、滑阀泵、液环泵、往复式真空泵。也可根据气体传输的原理、工组原理、结构特点等进行分类，从原理上来说，主要分为变容式与动量式两种，根据结构特点可分为往复式、旋转式、牵引式等，不同的密封方式、结构特点决定了不同的真空应用范围。

二、半导体真空泵：百亿级产业，需求稳中向上

（一）应用在半导体制造多个工艺环节

真空泵应用于单晶硅制造、晶圆加工等多个环节。 在半导体产业刚起步的时候，仅有两种处理工艺需要用到真空腔。一种是只有一层金属的蒸铝工艺，另一种是在硅片背面蒸金以便将电路芯片固定在它的管壳上，那时的真空工艺是在类似钟罩的腔内进行的。当前，半导体制造过程中的许多化学反应都是在真空条件下进行的，使用工艺腔来实现受控的真空环境。从20世纪80年代后期，工艺腔被构造为多腔集成设备。硅片在真空环境下从一个工艺腔传送至另一个工艺腔，避免了硅片的原始氧化并减少了污染。

半导体工业是真空泵非常重要的应用领域，是当前主要的增长动力。目前真空泵已经广泛应用在半导体制造的多个工艺环节中，包括刻蚀、镀膜、扩散等等。为了将制造过程控制在更小的尺寸上，越来越需要以更高的精度和均匀性执行更多的半导体制造过程步骤。为了实现这一点，半导体工艺必须在极度受控的真空环境中运行。随着功能和电路尺寸的减小，半导体制造中的工艺步骤数量将继续增加，从而导致真空设备需求的增加。此外，小型化还需要新的制造技术，如多模和EUV光刻技术，这将进一步推动半导体制造商采用真空系统。

半导体制造中主要应用的真空泵类型包括干式真空泵以及涡轮分子泵。较早时，油式真空泵是半导体行业中常用的真空泵种类，目前干泵成为了半导体行业最主要的真空泵类型。与基于液体的水环泵、油封泵和蒸汽喷射系统相比，干泵设备除了能提高速度、工艺可重复性、灵活性和生产率之外，还能够显著节省运营成本、维护成本和安装空间。干泵设备的关键优势，不使用水或油来进行真空阶段的密封或者润滑，因为设备的运行成本非常经济，可让用户优化真空工艺。另外，干泵消除了工艺过程污染油或油搭载进入尾气处理系统的风险，他们不会产生废物、或者污染宝贵的溶剂、产品或环境。

干式泵是一种无油的泵送机构，用于创造真空环境。它们在真空抽气机构内不使用润滑剂，并有一系列的监测和控制选项。干泵广泛应用于半导体领域，也应用于冶金、涂料、干燥、太阳能等工业过程。它们也用于科学仪器，如扫描电子显微镜。

在涡轮分子泵或涡轮泵中，涡轮转子快速旋转产生真空。涡轮泵的主要特点是转速高。涡轮泵通常与主湿泵或干泵一起使用。它们通常用于半导体应用和研发、工业应用和高能物理。

在刻蚀和薄膜沉积设备中通常使用干泵+涡轮分子泵，将大气抽至一定真空使得符合工艺的需求。由于干泵抽真空的能力有限，需要配上涡轮分子泵将环境抽至高真空。根据Edwards官网，一个月产4万片的晶圆厂，需要1000个减排系统，2000个干泵，以及至少500个涡轮分子泵。其中干泵和减排系统直接出售给铸造厂和集成设备制造商，供其在制造过程中使用，涡轮分子泵直接出售给设备制造商，以便集成到其工艺工具中。

（二）百亿级产业，存量市场奠定需求稳中向上

半导体真空市场规模占同期半导体设备销售额的3%~4%。 根据SEMI（国际半导体设备与材料协会），2017-2020年全球半导体设备市场销售额566/645/598/689亿美元，结合前文提到的半导体真空市场规模（2017-2019年约19/20/21亿美元），真空泵占同期半导体设备销售额的3%~4%。真空泵还需要定期维护，服务市场也是重要的一部分，例如Altas真空部门每年服务收入占到该部门收入的25%。根据Edwards，公司的大多数真空泵的使用寿命在10年到20年之间，并在这段时间内经历4到10次预定的再制造过程。对于某些客户，真空泵和减排系统每天24小时、每周7天运行，因此除了再制造外，还需要定期维护。我们估计，用于超清洁环境的干泵通常需要每4至5年维修一次，但建议在更严格的工艺下运行的泵每三个月进行一次维修。

进一步地，我们按照每年新增晶圆产能和目前装机产能测算了全球半导体真空泵每年增量需求与更新需求。

参考Edward的数据，我们的测算包含了以下关键假设：

（1）假设每月4万片产能的12寸晶圆产线需要干式真空泵2000台，涡轮分子泵500 台；（2）平均更新年限假定为10年（每年更换存量真空泵的10%）；（3）半导体用干式真空泵价格假定15万元/台，分子泵假定12万元/台；（4）服务市场为总需求规模的25%，即为设备需求1/3。（2019年Altas真空部门服务收入占总收入的25%）。（5）2025年的装机预测取IC Insights的估计值，2021-2025年我们根据2025年的装机预测做了平滑处理。

测算结果如下：

（1）存量需求占据主导，支撑需求稳中向上。 根据测算，存量真空泵的更新与服务市场占整个设备市场的60%~70%左右，庞大的存量市场保证了半导体真空泵的稳定需求。

（2）预计2025年全球半导体领域真空泵市场需求超过200亿。 根据IC Insights，2020 年全球装机产能合计923.11万片/月（折算成12寸晶圆，下同），预计到2025年全球装机产能1252万片。据此测算，2019年半导体真空泵的设备与服务需求约130亿元，与ISVT的估计相近。预计到2025年全球半导体真空泵的设备与服务需求达到217亿元，其中设备需求约162亿元，服务需求约54亿元。

遵循同样的思路，并对国内装机的全球占比作出假设，我们可以对国内的半导体真空泵市场规模进行测算，并假设国内装机占全球装机的比例逐渐上升。

根据测算，2021-2025年国内半导体真空泵设备的市场空间分别为33/32/35/39/43亿元；加上服务的需求，则同时期设备及服务的总需求为44/43/47/52/57亿元，未来5 年复合增长率为7.5%，保持稳定增长。

三、光伏真空泵：下游扩产积极，需求快速扩张

（一）光伏行业：碳中和目标下，需求确定性强

太阳能组件价格大幅下降，带动光伏电站投资成本下降，经济性显现。 根据CPIA的数据，太阳能电池组件的价格从2007年的约36元/W降低到2020年的1.57元/W，下降幅度达95.6%，带动光伏电站投资的系统成本从60元/W左右下降到3.99元/W。由于各国的电价不同，随着光伏发电成本的不断下降，在不同地区陆续实现平价上网， 2020年中青海海南州的竞价项目中标电价为0.2427元/W已经低于当地的煤电上网电价，光伏发电的经济性逐渐显现。

碳中和目标下，光伏装机需求确定性强。 2020年9月，我国在联合国大会一般性辩论中宣布二氧化碳排放力争在2030年前达峰，努力在2060年实现碳中和，欧洲美国等均提出了各自的减能减排政策。在经济性与政策的双重驱动下，光伏发电新增装机预计将迎来较快增长，根据CPIA的预测，2021年国内新增装机在55-65GW，全球装机规模在150-170GW，十四五期间，国内年均新增装机70-90GW，全球年均新增装机210-260GW。

（二）真空泵：受益下游积极扩产，需求快速扩张

太阳能电池的若干生产过程与半导体类似，包括拉晶、镀膜等，也会用到干式真空泵。干式真空泵可用于光伏产业链中硅片的拉晶环节、电池片的钝化镀膜环节（PECVD/ALD设备）、组件的层压环节等。根据捷佳伟创的招股说明书，以其PECVD 设备为例，干式真空泵为PECVD设备中成本占比最大的零部件， 2015-2017年，干式真空泵在PECVD设备中的价值量占比为11.4%/12.2%/12.7%。

根据中科仪的招股说明书，晶体生长和硅片生产每GW需要约200台干式真空泵，单价约7万元，同时假设真空泵的受用寿命为10年，每台真空泵每年需要的维保费用为 3万元。由此我们可以估计硅片环节对真空泵设备的需求规模。

2020-2022年硅片环节对真空泵的设备与维保需求规模约22.6/28.6/35.6亿元。继续沿用上文的硅片扩产数据，我们可以得到2020-2022年拉晶环节对真空泵的新增设备需求规模约12.7/13.3/14.5亿元，与上文通过价值量计算的市场规模相似，考虑存量真空泵的更新与真空泵的维保费用之后，同时期设备与维保的市场规模约 22.6/28.6/35.6亿元，复合增长率约25.5%，维持高速增长状态。

通过假设国内与全球的新增装机规模、PERC+/HJT等不同技术路线的产能占比以及镀膜设备在不同技术路线中的价值量占比等（由于技术路线迭代变化，近年电池片环节设备更新较快，故未考虑真空泵的存量更新），我们可以测算电池片环节的真空泵需求规模。

2020-2022年电池片环节（PECVD、ALD等镀膜设备）对真空泵的设备需求规模约 6.5/9.8/11.7亿元，同期组件环节（层压设备）对真空泵的需求规模约0.8/1.2/1.2亿元，加上硅片环节的设备需求，整个光伏行业对真空泵的设备需求为21.7/27.0/31.2 亿元，再加上服务维保市场，光伏行业对真空泵的设备与服务需求规模约 33.5/45.0/55.5亿元，复合增长率28.7%，保持高速增长。

（三）国产替代正当时，有望持续深入

降本贯穿于太阳能电池的整个发展过程，设备降本是其中的重要一环。前文已经提到组件价格的大幅下降，与之同时发生的则是随着设备的国产化与产能的逐步上升，设备投资额的大幅度下降，根据CPIA的数据，PERC产线从2016年的6亿元/GW降低到2020年的2.25亿/GW，下降幅度达62.5%，2020年TOPCon的产线投资额为2.7亿元/GW，HJT的产线投资额为4.5-5.5亿/GW，在PERC+/TOPCon/HJT等多种技术路线并行、竞争焦灼的现阶段，设备投资额将是决定技术路线走向的重要一环，而将若干零部件国产化将会是设备降本的一个有效驱动因素。

国产替代趋势下，国产真空泵行业将受益。 以电池片设备龙头厂商捷佳伟创为例，出于配合电池片厂商降本以及保持市场份额的需要，近年捷佳的PECVD设备均价与毛利率一直在下降。出于降本与提高利润率的需要，以捷佳为代表的电池片设备厂商完全有动力切入到国产真空泵。而根据据捷佳的招股说明书，捷佳的干式真空泵主要来自于Pfeiffer Vacuum SAS（德国普发），根据汉钟2021年1月在投资者问答平台上对投资者的答复，汉钟的真空产品已经供货捷佳伟创。

四、行业高度集中，龙头深耕真空领域

（一）全球半导体真空泵行业高度集中

全球真空领域的主要公司有Edwards（英国，被Atlas收购）、Pfeiffer Vacuum（普发，德国）、Ebara（荏原，日本）、Kashiyama（坚山工业，日本）等，其中Atlas、 Pfeiffer、Ebara均为上市公司，2020年Atlas营收约109亿美元，Eraba约49亿美元， Pfeiffer还未披露2020年财务数据，2019年营收约7.9亿美元，这几家龙头公司均为成立多年的百年企业，在激烈的行业竞争中脱颖而出，技术实力雄厚。

以2019年为例，以Atlas真空部门的收入约26.9亿美元、Pfeiffer Vacuum公司收入约 7.1亿美元作为两大公司真空收入的近似，同年全球真空市场规模45.4亿欧元（约51 亿美元），我们可以得到Atlas的市占率约53%，处于绝对龙头，Pfeiffer市占率约13.9% （因为包含其他业务，略有高估），全球真空市场集中度较高，龙头市占率领先。

（二）Edwards/Atlas：真空领域绝对龙头，产品布局全面

Atlas（阿特拉斯·科普柯，瑞典）成立于1873年，以铁路设备起家，后陆续切入气动工具、压缩机、船用发动机、柴油机等，经过不断的兼并与剥离，目前集团有4块业务，分别是真空业务、压缩技术、工业技术、动力技术。

真空业务（Vacuum Technique）提供真空产品、排气管理系统、阀门以及其他相关产品，具体产品包括：（1）油封旋片真空泵；（2）干式真空泵；（3）涡轮分子泵；（4）液环真空泵；（5）减排和综合系统；（6）低温泵等；可用于半导体、平板显示、LED、太阳能、光学涂层、科学研究等行业，与ISTV的定义基本相同；除去设备之外，这部分还包括减排系统、设备监控、现场服务、备件、润滑油等。

2020年Atlas收入约108.8亿美元，其中真空部门收入约27亿美元，占比24.7%，真空部门近三年的复合增长率约5.6%，营业利润率介于22%~25%之间。

以2019年为例，Atlas的真空部门收入构成有3个维度可进行拆分，从区域来看，以来自亚洲和大洋洲的收入为主，占比达到58%，其次为北美（25%），欧洲（15%），非洲/中东地区（2%）。分应用领域来看，电子行业收入占比达到65%，通用制造业和加工工业分别占比18%、13%。

以2019年为例，从服务占比来看，真空部门服务占比25%，压缩技术部门占比43%，工业技术部门服务占比28%，动力技术占比42%，可以看出在这个行业服务占比非常重要，而真空部门的服务收入占比最低，估计为真空部门的设备价值量较高所致。

Atlas在真空领域进行布局，持续收购公司。继2014年收购Edwards，Atlas于2016 年收购了另一家真空技术领域的领导者德国leybold（莱宝），并于2017年单独设立真空技术部门，2019年7月Atlas收购了Brooks（布鲁克斯）的低温业务，此次收购包括低温泵运营公司、以及Brooks在爱发科低温真空（Ulvac Cryogenics）有限公司 50%的股份，进一步增强了其真空业务的全球竞争力。

Edwards是真空领域和减排系统的全球领导者，拥有100多年的悠久历史，1919年成立，以真空设备起家，1975年就已经覆盖全球75个国家，公司发展比较关键的节点是1984年推出了无油干泵，2014年被Atlas收购。产品的应用领域主要有分析仪器（电子显微镜、质谱仪、实验室等）、化工、食品加工、研究机构、发电解决方案、工业解决方案、半导体、平板显示、可再生能源（太阳能、LED照明、储能等）。

从公司的产品发展历程来看，随着半导体技术的不断发展，公司的真空泵随之不断进步，一个是技术上，不断的进行技术开发以符合下游客户的需求，产品呈系列化，另一个是能耗上的不断降低（半导体行业为用电大户），为客户创造收益。

2014年Edwards营业收入约7亿英镑。分部门收入结构，以2012年为例，半导体真空泵占比37.3%、通用真空泵占比28.4%、新兴技术领域真空泵占比7.0%，另外服务收入占比达到27.3%。公司在半导体领域的客户包括晶圆厂以及半导体设备商。2010- 2012年公司最大客户是三星，收入占比分别达到15.1%、13.6%、13.4%。

从收入规模看（由于14年被收购，仅能获得截止2014年数据），Edwards收入增长与半导体设备市场规模的增长非常一致，收入增长的最大动力来自于半导体领域。在上一轮半导体设备行业的顶点2011年，Edwards的收入最高达到7.0亿英镑，当年毛利率36.8%，净利润0.52亿英镑。而受益此轮半导体行业景气周期，2020年Atlas 的真空技术部门收入达到约21.1亿英镑，其中主要的收购仅在2016年。

（三）Pfeiffer Vacuum：涡轮分子泵开创者，致力于真空领域

公司于1890年成立，以电灯泡的真空设备起家，1951年开发了用于核工业的真空泵，从此公司真空泵业务开始向多领域扩张，1958年公司发明并推出分子泵，1985年发明分流涡轮分子泵， 2010年兼并了阿尔卡特朗讯的真空技术部门“adixen”，2019 年10月公司在我国江苏无锡建厂，为真空领域的领先企业。

公司的产品组合包括真空产生、测量与分析、安装工具、真空系统、真空单元、捡漏设备等，可以提供各种复杂的真空系统解决方案。

公司产品系列齐全，可为不同制程要求提供产品组合。 以半导体的PVD（物理气相沉积）为例，要求在10-3 至 10-7 Torr范围的高真空范围内运行，需使用干式粗抽泵、涡轮泵以及低温泵，普发提供的A4H系列是专用于 PVD 应用的全系列干式泵和磁悬浮涡轮泵，ATH M涡轮泵也已获得许多OEM客户的认证。

2015-2019年，普发的收入从5.01亿美元增长到2019年的7.1亿美元，复合增长率 9.0%，2018年曾经达到7.8亿美元，2019年受半导体行业投资不景气收入有所下滑，同期营业利润从6501万美元增长到7274万美元，营业利润率在13%左右，2018年最高达到14.6%。

从收入的拆分来看：

（1）按产品拉看，绝大部分为真空产品，公司产品分为Turbopumps（涡轮泵，针对高真空和超高真空）、Instruments and components（仪器部件）、Backing pumps （支撑泵，针对低真空和中真空）、Service（服务，培训、备品备件等）、Systems （系统，针对多级真空等）。2015-2019年，各产品的占比均有所变化，涡轮泵从32.1%下降到29.2%，支撑泵从22.7%下降到19.6%，仪器部件从21.9%上升到30.3%，真空系统从2.0%上升到3.1%，除去仪器部件占比大幅上升外，其余部分均保持相对稳定状态。

（2）按下游应用领域，与ISTV的分类类似，公司将客户分为半导体（主要使用中大型支撑泵、涡轮分子泵、测量仪器）、工业（用于电动车、太阳能热发电、冶金、空调制冷等）、分析测试（扫描电子显微镜等）、科研（泵、质谱仪、检漏仪等，用于研究所等）、涂层（平面显示、纺织、OLED、LED、太阳能电池等）。半导体为其中最大的部分，2015年到2019年，半导体行业的收入占比从31.0%上升到35.2%，最高达38.4%，工业应用从25.5%下降到23.6%，分析测试从20.3%下降到18.7%，科研行业从10.9%上升到11.9%，期间最高达到过15.1%（2018年），涂层部分从12.3% 下降到10.5%。

（四）Ebara：日本百年企业，干式真空泵积累深厚

Ebara成立于1912年，目前旗下有3块业务，分别是：（1）流体机械及系统，主要包括泵、压缩机、涡轮机、鼓风机等，主要用于石油、天然气、液化天然气等；（2）环境工程，包括市政垃圾焚烧厂、工业垃圾焚烧厂、水处理厂等；（3）精密器械，包括干式真空泵、CMP（化学机械抛光）设备、电镀设备及排气处理设备，主要用于半导体、平板显示、LED和太阳能电池等领域。根据公司的介绍文件，公司在液化天然气泵领域全球市占率第一，在CMP系统和干泵领域全球市占率第二。公司2020 年营业收入约49.1亿美元，流体机械及系统部门占约60%，精密器械部门占约27%，环境工程部门占约13%。

从公司的发展历程来看，可分为以下几个阶段：（1）1912~1944年，主要致力于水利基础设施；（2）1945~1980年，趁着战后日本重建，公司介入风力&水力发电、垃圾焚烧业务；（3）1980~2000年，介入半导体设备，1986年推出干式真空泵设备， 1987年推出减排设备，1992年推出CPM设备；（4）2000年之后，可持续增长阶段，致力于能源节约产品与循环利用技术。

2016-2020年，公司精密器械部门的收入从约7.8亿美元上升到13.2亿美元，年复合增长率约13.8%，同期营业利润率从约12.5%下降到8.1%，根据公司2020年的年报，公司精密器械部门的营业利润率的目标为12%。

精密器械部门的收入拆分来看，（1）应用领域。2019年半导体收入占比90%，其他占比10%。（2）产品和服务角度。2019年服务收入占比34.7%，产品收入占比65.3%。

从海外龙头的发展历史来看，我们可以得到以下启示：

（1）企业发展历史长，长期致力于真空领域，产品系列齐全，技术壁垒较高，除去真空泵之外，还可以提供包括捡漏、真空计在内的真空综合解决方案。

（2）布局广泛，除去真空领域之外，利用泵领域的通用知识，从事压缩机、涡轮机等通用制造业，极大的发挥了技术的共享作用。

（3）不断兼并，在相似领域进行相关的收购兼并，获得相关技术并发挥协作作用。

五、国产化大幕已开启，未来可期

国内企业在光伏领域已有较大突破，半导体领域逐步切入 。根据汉钟精机的年报，公司的真空产品在光伏产业深耕多年，已经实现大批量供货以及长时间可靠运行，以优异的性价比赢得了较大的市场份额。根据中科仪的招股说明书，中科仪的真空产品已经被隆基、晶盛机电、平煤隆基等光伏客户大批量采用，并且进入了长江存储、上海积塔等半导体客户。以汉钟精机和中科仪为代表的国产真空泵企业，已在光伏行业取得不错成绩，并且随着产品性能的不断进步以及光伏行业对降本的不断追求，预计在光伏行业的突破将继续进行。半导体行业对真空泵的要求更高，国产真空泵需要较长的时间进行技术探索和验证，但是国产化的进程已经开始，预计将逐步提高市场份额。

各家由于各自发展的历程不同，干式泵的布局亦有所不同。 根据各家官网的产品介绍来看，Edwards作为真空领域绝对的领先者，产品系列最全，各种结构的真空泵均有布局；Ebara以罗茨泵为主；Kashiyama以罗茨泵和螺杆泵为主。反观国内，汉钟精机作为螺杆泵的龙头，真空泵以螺杆式为主，旋片泵也有所布局；中科仪以涡旋泵和罗茨泵为主；中科科仪以分子泵、旋片泵为主。

罗茨泵、涡旋式、螺杆式均是干式真空泵的主流结构，均为变容式真空泵，根据中科仪的招股说明书，

（1）罗茨干泵 内装有两个相反方向同步旋转的叶形转子，转子间、转子与泵壳内壁间有细小间隙而互不接触的一种变容真空泵，主要的真空度应用范围是10 -3~105Pa；

（2）涡旋干泵 通过两个涡旋盘的转动，在两个涡旋盘之间不断产生周期性变化的新月形状小腔，达到压缩气体的效果，主要的真空度应用范围是10 -1~105Pa；

（3）螺杆干泵 是利用一对螺杆，在泵壳内做同步高速反向旋转而产生的吸气和排气达到压缩气体的效果，主要的真空度应用范围是10 -2~105Pa。

从真空度的应用范围来看，罗茨干泵最广，螺杆干泵次之，最后是涡旋干泵，三者主要应用于粗真空（1.3×10-1~10 5Pa）与部分高真空（1.3×10-6~1.3×10-1Pa）领域，要达到更高的超高真空（1.3×10-10~1.3×10-6 Pa）需要叠加涡轮泵、分子泵等。

与干式泵大多为变容真空泵不同，分子泵的是一种动量真空泵，是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵，主要用于实现高真空，应用领域与干式真空泵有所差异。

（一）汉钟精机：螺杆泵龙头，充分受益光伏与半导体的扩产与国产化

公司主要产品有螺杆式制冷压缩机和螺杆式空气压缩机，经过多年的发展，已成为中国大陆颇有实力的压缩机生产厂家。按照产品分类，公司的主要产品包括制冷产品、空压产品、真空产品、铸件产品、零件及维修。2019年总收入18.07亿元，其中真空产品收入3.69亿元，占总收入的20.43%，根据公司的业绩快报，2020年营业收入22.73亿元，同比增加25.78%。

真空产品收入快速增长，毛利率维持高位。 目前公司的真空产品主要应用在光伏领域。受益于光伏行业积极扩产，公司真空业务近几年快速增长。2018年和2019年真空产品收入分别为2.73/3.69亿元，同比增长18.2%/35.2%；2020年上半年真空产品收入1.92亿元，同比增加86.5%，进入高速增长阶段；近年真空产品的毛利率稳定在 40%左右。20H1真空产品收入占总收入比重升至21.87%。

在半导体真空泵方面，根据2019年年报，2019 年公司干式真空泵在国内半导体一线大厂及设备厂都已导入，产品符合业界需求，并可与欧、日国际真空泵大厂在产品性能规格等方面竞争。在半导体行业的拉晶、LL、Etching、CVD、ALD、封装、测试等清洁或严苛制程公司真空泵都能使用。目前在台湾已有半导体产业公司在使用公司真空泵，大陆市场已在积极开拓中，且已有厂商开始陆续下单。

汉钟以螺旋式干泵为主。 根据公司21年3月的投资者关系活动记录，公司的螺旋干式真空泵主要应用于光伏行业、半导体行业、新能源行业等，应用于光伏行业的占比最高，而其中又以光伏硅片的拉晶环节以及电池片环节为主，在光伏行业已经赢得了较大的市场份额，主要客户包括晶盛机电、隆基、捷佳伟创、晶科等。

汉钟精机拥有半导体用干式真空泵全系列产品。 经过不断地技术改善和优化，目前公司已有能满足半导体最先进工艺的全系列中真空干式真空泵产品，公司产品真空产品抽气量达到80-7000m3 /h，可满足各制程抽气需求，并拥有SEMI 安全基准验证证书，根据公司年报，目前有以下三个系列运用在各半导体工艺中：

（1）PMF：体积超小，超高效节能机型，适用于Load Lock、TR、Metrology等干净制程；（2）iPM：体积小、节能，适用于一般严苛工艺腔，诸如PVD、Ashing、ETCH、 IPM 等工艺；（3）iPH：抗沾黏、腐蚀、热氮气系统、壳体温度控制，适用于严苛工艺腔，诸如CVD、ALD 等工艺。

（二）中科仪：国内涡旋泵龙头，技术积累深厚

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司（后简称中科仪）是真空仪器设备制造企业，主要业务包括真空科研设备、LED高端装备设备（包括PECVD、晶体生长炉等）、真空干泵及技术服务。根据公司招股说明书，公司在干式真空泵领域具有近20年的产品研发和生产经验，承担了“国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020）”、 “极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（“02专项”）、“高档数控机床与基础制造装备”（“04专项”）等国家科技重大专项，公司的干式真空泵产品已在中芯国际、长江存储、上海华力、北方华创等集成电路制造企业及集成电路装备制造企业通过工艺验证并批量应用，在光伏领域，公司干式真空泵产品已被隆基股份、晶盛机电等龙头企业大批量采购使用。

当前中科仪的真空干泵业务正处于快速增长态势。 根据中科仪的招股说明书，2019 年公司销售真空干泵2546台，销售收入1.57亿元，同比增长97.8%，2020年前半年销售真空干泵1795台，销售收入1.24亿元，延续高增长态势。2019年公司真空干泵产能2400台/年左右，产能利用率126.70%，公司的募投项目《干式真空泵产业化建设项目》，计划投入7亿元形成20040台/年的生产能力，进一步增强公司的创收能力。

中科仪干式真空泵主要为罗茨干泵与涡旋干泵。 罗茨干泵分为三大系列：L系列产品主要应用于集成电路清洁工艺制程，如装载、传输；M系列产品主要应用于集成电路中等工艺制程，如刻蚀；H系列产品主要应用于集成电路苛刻工艺制程，如CVD；涡旋干泵分为双侧无油式和单侧屏蔽式两大系列。

中科仪干式真空泵已被光伏与半导体头部客户采用，产品力获认可。 根据公司招股说明书，中科仪的主要客户包括隆基、晶盛机电等光伏行业制造/设备头部客户，以及长江存储、上海积塔、北方华创等半导体行业制造/设备头部客户，来自半导体行业的收入估计在20%以上，产品力获得认可。

（三）中科科仪：致力于分子泵、旋片泵，国家级高新技术企业

北京中科科仪股份有限公司（后简称中科科仪），前身为中国科学院北京科学仪器研制中心（原中国科学院科学仪器厂），是中国科学院首家事业单位整体转改制企业。中科科仪曾经承担了多个国家重要科研攻关项目，成功研制出我国第一台扫描电子显微镜、第一台涡轮分子泵、第一台商用氦质谱检漏仪、第一台磁悬浮分子泵等，技术创新实力雄厚，被评为国家级企业技术中心，是国家首批通过的国家级高新技术企业。

公司主营业务是科学仪器设备及半导体等产业设备核心零部件产品的研发、生产和销售，主要真空泵产品是分子泵及旋片泵，真空仪器主要包括检漏仪、充气回收检漏系统、空间环境模拟系统、大科学真空配套及真空镀膜设备等产品。

与一般的干式泵不同，分子泵主要应用于高真空和超高真空度范围（约 10-8~10- 1Pa），干式泵主要应用于低真空度范围（约 10-3~105Pa）。干式真空泵在大气压强下独立使用实现低真空，而分子泵的正常工作需要一定的启动压强，其无法在大气压强下直接工作，分子泵的正常工作要求连接干式真空泵等低真空泵种作为前级预抽真空泵使用，分子泵作为二级泵使用。

详见报告原文。

（本文仅供参考，不代表我们的任何投资建议。如需使用相关信息，请参阅报告原文。）

精选报告来源：【未来智库官网】。

分子泵、磁悬浮分子泵市场情况及在半导体领域的应用

分子泵是基于动量传递原理，在变频电源驱动电机的带动下高速旋转，在分子流区域内，气体分子与高速转动的叶片表面碰撞，动量传递给气体分子，使部分气体分子产生定向流动而被排出泵外，从而达到抽气的目的。分子泵属于动量真空泵，是通过使分子定向流动而被排出泵外。

分子泵应用于高真空和超高真空度范围（10-1~10-8 Pa） 。分子泵作为高、超高真空泵种无法在大气压强下直接使用，其正常工作需要一定的启动压强（分子泵启动压强一般为0.1-100Pa），通常使用时需要连接低真空泵种作为前级预抽真空泵。分子泵机组是以分子泵为主泵，以旋片泵、涡旋泵为前级泵串联而成的组合真空设备。分子泵机组选用旋片泵、涡旋泵、干泵等作为前级预抽泵，分子泵运行后能迅速使密闭空间获得高真空。

全球及中国分子泵的发展历史

萌芽阶段（1912-1953年） ：1912年，德国人W.Gaede发明了世界上第一台分子泵，它的转子直径为 50 mm，转子上切有8个尺寸不同的槽，转速为 12000 r/min，抽速约为 1.5 L/s。这种泵的工作原理与现代分子泵的工作原理一致，但由于故障多很快被淘汰，未能普及。1926年，M.siegbahn 在瑞典的大学实验室中开发了一种盘型分子泵，其结构与现代牵引式分子泵相似，泵体上开有螺旋槽，转子为一圆盘。1939年，LEYBOLD 公司生产制造过两台分子泵相关产品。早期的分子泵均为牵引式分子泵，这种泵的体积大，抽速小，间隙小，故障多，应用时受到很多限制，所以只能在一些特殊领域使用，未能普及。

起步阶段（1954-1977年） ：1954年 Willi Becker 博士开始研发涡轮分子泵，1957年，德国 PFEIFFER 公司的 W.Becker 发明了一种新型的分子泵，命名为涡轮分子泵。其结构为卧式，泵腔内装有动、静叶列，气体由位于泵中央的吸气口进入，经抽气通道流至泵体两侧，被叶列压缩最终由排气口排出。该时期1964年中国涡轮分子泵获得研发发展。1966年法国公司开发了一种立式涡轮分子泵，但是整体该阶段涡轮分子泵的研发处在基本原理实验阶段。在1976年德国莱宝无接触磁悬浮轴承分子泵，但是由于其技术并不成熟、事故多，成本高，未能普及。

发展阶段（1978-1990年） ：20世纪80年代中期，日本一些真空设备制造公司，在德国的磁悬浮技术基础上进行改进，开发出结构更为合理，性能更为先进的内环式旋转磁悬浮涡轮分子泵。1983年日本研发内环式磁悬浮分子泵，80年代后，分子泵突破以科研机构为主要的需求领域，在半导体等工业产业逐步获得应用。并在该阶段产品性能得以不断优化。

成熟阶段（21世纪初至今） ：现代分子泵向智能、灵活、高效的方向发展，并出现了多种新型分子泵，在传统分子泵基础上，可实现无接触支撑、高效率、高寿命的磁悬浮分子泵等产品获得广泛应用。并且分子泵产品在半导体、工业、仪器制造及真空领域逐渐获得广泛应用。

中国分子泵的研究和制造，起始于20世纪60年代。1964年，上海真空泵厂成功研制了第一台卧式分子泵 FW-140，因采用皮带、齿轮二级增速，体积较为笨重，且存在发热等问题，未得到应用推广。1977年，中国科学院科学仪器厂(简称中科科仪)研制成功我国第一台立式涡轮分子泵 FB450，正式开启了国内分子泵研制的历程。此后，中科科仪陆续开发系列油润滑、脂润滑和磁悬浮分子泵产品，广泛应用于科研、工业过程、真空镀膜、半导体制造等多个行业。中科科仪是国内分子泵技术引领者和标准起草者，是国内分子泵最大生产供应商。

分子泵的结构及分类

分子泵产品主要以轴承特性或转子结构分类，产品特点及下游应用领域各不相同：

按照轴承特性来看，分子泵可分为油润滑、脂润滑、磁悬浮 三类。其中，1）油润滑轴承分子泵：结构简单、散热良好,但只能竖直安装,不能获得完全洁净的真空，主要应用于光学镀膜、装饰镀膜、科学研究。2）脂润滑轴承分子泵：可实现多角度安装,主要应用于真空炉、加速器等,但缺点是不能获得完全洁净的真空。与之相比，3）磁悬浮轴承分子泵:采用非接触式磁悬浮轴承,不但可以实现多角度安装,同时能获得完全清洁无油的真空,具有转速高、寿命长等特点，是分子泵未来发展的趋势。

我国磁悬浮分子泵产品发展前景可观。以中科科仪为例，作为国内分子泵龙头企业，产品性能已经与海外企业相当，且基于国内生产成本的优势，高性价比逐渐凸显。未来，基于我国国产化政策红利，磁悬浮分子泵有望迎来更大的发展空间。

分子泵的产品种类（按照轴承分类）：

种类

特性

应用领域

油润滑分子泵

1. 能满足较恶劣的使用环境要求(高温、粉尘等)；2. 性能稳定，使用寿命长；3. 维护保养简单，方便操作；4. 适用范围广，性能稳定。

Low-E 玻璃、ITO 玻璃、光学镀膜、装饰镀膜、科学研究、太阳能电池、电子来辉接、真空炉、电真空。

脂润滑分子泵

1. 任意角度安装，便于系统集成，紧凑型结构；2. 复合抽气结构，高前级压强下仍保持较大抽速；3. 高强度转子，适用于复杂工业过程；4. 使用方便、应用范围广、性能稳定。

平板显示、薄膜电池、LoW-E 玻璃、ITO、碳化硅、加速器、真空炉、晶体晶振。

磁悬浮分子泵

1. 节能:无摩擦，避免摩擦热损耗、较其它类型产品能耗降低30%；2. 高效:更长的连续工作时间、高气流量和高抽速；3. 灵活:紧凑型结构，满足更小的物理空间需求、任意角度安装，适合各种设计需求、丰富扩展功能，满足客户定制化需求。

半导体、光伏、平板显示、装饰镀膜、功能镀膜、科学研究、新能源、新材料、高能物理。

按照转子结构来看，分子泵产品可分为牵引式、涡轮式、复合式 。早期的分子泵基本均为牵引式分子泵，由于体积大、抽速小、间隙小，应用时限制较多，未能广泛普及。为满足日益增长的需求，涡轮分子泵和复合式分子泵被推广普及。其中，复合式分子泵为涡轮分子泵与牵引分子泵的串联组合，集两种泵的优点于一体，具有较大的抽速和较高的压缩比，主要应用于半导体、光学、电子、航空航天等领域。

分子泵的产品种类（按照转子结构分类）：

分类

介绍

优点

缺点

原理

牵引式分子泵

早期分子泵均为牵引式分子泵，由于应用时受到很多限制，因此只能在些特殊领域使用，未能普及。曾一度被制造简单、抽速大的扩散泵所代替

起动时间短，在分子流态下有很高的压缩比，能抽除各种气体和蒸汽，特别适用于抽除较重的气体。

抽速小，密封间隙太小，工作可靠性较差，易出机械故障。

气体分子与高速旋转的转子相碰撞而获得动能，被驱送到泵的出口的分子泵。

涡轮分子泵

涡轮分子泵的出现打开了应用市场，分子泵的结构形式从早期立式结构发展为立式和卧式并存。

1. 清洁；2. 使用方便；3. 气体输送能力强；4. 适用于超高真空应用；5. 高压力下性能良好。

1. 设备费用高；2. 对颗粒物或沉淀物铭感；3. 噪音与振动；4. 转子叶片破碎问题；5. 暴露大气易引起事故。

利用高速旋转的动叶片和静止的定叶片相互配合来实现抽气的分子泵。

复合式分子泵

为将涡轮分子泵与牵引式分子泵串联在一起，组成具有涡轮分子泵与牵引式分子泵各自优点的复合式分子泵。

1. 高效率；2. 高真空度；3. 稳定性好。

1. 对温度依赖性大；2. 需要水冷散热；3. 部分部件使用寿命较短，需要经常更换，且费用较高。

能在高压区域保持较高的抽气性能，在原有的涡轮分子泵的高压侧置了螺旋式的牵引分子泵

分子泵构造复杂、价格昂贵，高速旋转工作时会有振动。以涡轮分子泵为例，其主动或抽气部分由转子和定子组成。涡轮叶片位于定子和转子的外周，在分子泵工作过程中，如果压强突然恶化，则有可能叶片损坏。被抽气体通过高真空进气法兰上的孔到达转子和定子顶部叶片的抽气区域，气体被压缩至前级压力或粗真空压力。

中国分子泵市场规模及竞争格局

（一）分子泵的市场规模

2023年全球涡轮/磁悬浮分子泵市场规模分别为14/3.9亿美元（约合人民币100.4/27.9 亿元），以5.9%/6.7%的复合增长率增长，预计2030年可达20.8/6.1亿美元（约合人民币149.5/43.9亿元）。国内方面，2017-2020年中国分子泵市场规模从10亿元增长至13.4亿元，复合增速10.2%。未来随国产半导体进程加速；5G 基站基建配套设施逐步完善；新能源锂电池、光伏设备需求增长等因素同时共振下，预计2026年国内分子泵行业市场规模有望突破31亿元，CAGR 15%。

分子泵具有广泛应用场景。在半导体工业的推动下，分子泵在光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备市场拓展加速。2022年全球半导体设备用分子泵市场规模42.94亿元，未来有望以9.78%的复合增速增长，2028年突破74.80亿元。

（二）分子泵下游主要应用

领域

应用的具体环节

显示

Load Lock、晶圆转换、测试、PVD、电池、OLED 蒸发、OLED 封装、触摸屏层压、注入、刻蚀、PECVD

真空镀膜

显示涂层、光学镀膜、卷绕镀膜、等离子沉积、装饰镀膜、表面硬化 CVD DLG、表面活化、等离子喷涂、玻璃镀膜

科研

加速器、Beamlines&End Stations、核聚变、激光、引力波、大学、化学实验室、其他实验室、纳米技术工厂、真空模拟

LED

Load Lock、晶圆转换、计量、光刻、PVD、去光阻、PSS 刻蚀、ICP 刻蚀

光伏

Load Lock、晶圆转换、PVD、刻蚀、注入源、MOCVD、PECVD

科学仪器

电子显微镜和表面分析、质谱仪

半导体

Load Lock、晶圆转换、计量、光刻、PVD、PVD 预先清洁、快速热处理、去光阻、氧化物刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀、注入源、HDP-CVD

热处理

EBW、等离子焊接、VB、灭火、回火、退火

（三）分子泵的竞争格局

分子泵行业市场竞争激烈，国产化替代趋势明显。全球市场来看，普发 Pfeiffer、岛津 Shimadzu、荏原 Ebara、爱德华 Edwards 和莱宝 Leybold 为全球 CR5，占比超过市场份额的 50%。国内市场来看，由于国外分子泵产品长期在国内市场发展，国内科研机构及下游需求企业对国外优势品牌的产品性能及认知度较高，国外优势企业在中国市场的占有率处于优势地位。

分子泵在半导体领域的应用

（一）半导体生产的工艺环节

半导体产业链包括上游的半导体支撑产业，中游的半导体制造产业以及下游的半导体应用产业。半导体支撑产业包括半导体材料及设备，其中真空产品主要在半导体设备领域应用；中游半导体制造的核心是集成电路制造，包括IC设计、IC制造以及IC封测；下游的半导体应用领域众多，全球半导体应用领域排名前三的行业是通信及智能手机、PC/平板、工业/医疗。

IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。

半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。

（二）分子泵在半导体领域的具体应用

1、光刻机

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）

2、薄膜沉积设备

薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

3、刻蚀设备

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

4、离子注入设备

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并最终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

磁悬浮分子泵的市场情况

（一）磁悬浮分子泵介绍

磁悬浮分子泵是一种利用磁悬浮技术的分子泵，它结合了磁悬浮和分子泵两种技术。分子泵是一种用于创建高真空环境的设备，通过排除气体分子来减少气体压力。而磁悬浮技术则是一种通过磁场来悬浮和控制物体运动的技术。

在磁悬浮分子泵中，磁悬浮技术被应用于支撑和驱动泵内的旋转部件，通常是一个叶轮。这与传统的分子泵使用机械轴承或其它支持结构的方式有很大不同。通过磁场的作用，叶轮可以在没有实际物理接触的情况下旋转，从而减少了摩擦和磨损。

磁悬浮分子泵使用磁悬浮技术，使得叶轮在旋转时与支撑结构无物理接触。这种无接触设计消除了摩擦和磨损，提高了泵的寿命。由于没有机械接触，磁悬浮分子泵是无油的，不需要润滑油。这对于需要无油环境的应用非常重要，如在一些实验室和半导体制造工业中。

（二）磁悬浮分子泵的市场规模

因为磁悬浮的技术优势，磁悬浮分子泵未来会是行业发展的重点技术方向。全球磁悬浮分子泵的市场销售额及增长率如下：（2018-2029单位：百万美元）

2022年全球磁悬浮分子泵市场销售额达到了3.78亿美元，预计2029年将达到5.74亿美元，年复合增长率（CAGR）为6.70%（2023-2029）。

从产量上看，欧洲目前是全球最大的磁悬浮分子泵生产国，并且出口全球很多国家，但是产品同质化严重，价格竞争激烈，亟需提升产品价值，避免同质化竞争。同时，随着半导体和镀膜等行业发展，客户对磁悬浮分子泵提出了更多的质量要求和更高的技术指标，规格和功能变化越来越多样化。企业应该积极改进产品质量，从而使自身产品具有市场吸引力。

磁悬浮分子泵的主要消费国家为欧洲，美国，中国，日本和韩国等半导体和先进技术工业的主要生产国家和地区。这些地区占据全球大部分的市场。同时，印度，东南亚地区国家如印尼，泰国等近些年经济发展很快，具有较大的市场潜力。

市场上的主要磁悬浮分子生产商包括 Edwards，Pfeiffer Vacuum 和 Shimadzu 等，欧美和日本的企业在高端市场占据较大的份额。国内磁悬浮分子泵产品生产企业较少，如中科科仪，中科九微科技股份有限公司等，近些年已逐步占据高端市场部分份额。

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