上海先进半导体制造有限公司取得穹顶温控系统等专利，优化改善金属刻蚀机台中穹顶的冷却方式
金融界2024年9月27日消息，国家知识产权局信息显示，上海先进半导体制造有限公司取得一项名为“穹顶温控系统、空气扩散器及金属刻蚀机台”的专利，授权公告号 CN 221766693 U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本公开实施例提供了一种穹顶温控系统、空气扩散器及金属刻蚀机台。该穹顶温控系统包括：箱体、进风装置、加热装置和空气扩散器。箱体设置于穹顶的上方，具有用于包覆穹顶的顶面的空腔。进风装置设置于箱体的顶部中心区域并连通空腔和大气环境加热装置设置于箱体内并环绕于进风装置的周侧。空气扩散器设置于进风装置连通空腔的出风口处，并与箱体之间形成气流通 道；其中，空气扩散器包括：无孔导向部和边缘固定部。无孔导向部位于进风装置的出风口下方，用于配合箱体将气流引导至加热装置的目标加热区域。边缘固定部位于无孔导向部的边缘，用于固定空气扩散器至箱体。本公开用于优化改善金属刻蚀机台中穹顶的冷却方式。
本文源自金融界
半导体界炸锅！上海微电子EUV专利曝光，顶尖性能引猜测
芯片界最近可热闹了！上海微电子悄悄在德国申请了好几项EUV光刻机的核心专利，这下可把半导体圈给炸开锅了。大伙儿都在猜:咱们国产EUV光刻机是不是要来真的了？
说起EUV光刻机，那可是芯片制造的＂皇冠明珠＂。目前全球就荷兰ASML一家能造，咱们中国一直想自己搞出来，摆脱对外国技术的依赖。可这玩意儿难度太大了，投入天文数字不说，还需要顶尖人才和技术积累。
上海微电子这回在德国申请的专利，听说涉及了EUV光刻机的关键技术，比如光源、光路、曝光系统等等。这下可引起不少人浮想联翩:咱们国产EUV是不是有大突破了？
有人说，上海微电子选在德国申请专利，是为了更好地保护自己的知识产权。也有人猜测，这是想借机进军国际市场，跟德国的高精尖企业合作。还有大胆的观点认为，上海微电子可能掌握了更先进的EUV技术，这是要在国际舞台上大显身手啊！
不过话说回来，咱们也得保持清醒。ASML研发EUV光刻机可是花了几十年时间、上百亿美元，汇聚了全球顶尖人才。上海微电子要在短时间内赶上来，难度可想而知。
但无论如何，这次专利申请都让人振奋。说明咱们在高端光刻机领域并非毫无建树，有能力突破技术封锁，实现自主可控。虽然道路艰辛，但只要坚持不懈，中国芯的梦想终将成真。
回顾咱们国产光刻机的发展历程，真是一步一个脚印走过来的。从上世纪七八十年代开始布局，到如今能申请EUV核心专利，这中间经历了多少艰辛和努力啊！特别是进入新世纪以来，国家政策支持，企业加大投入，这才有了今天的成果。
上海微电子作为行业领军企业，一直走在前沿。从2002年成立到现在，专注高端光刻机研发制造，产品覆盖面越来越广，性能也在不断提升。这次在德国申请专利，更是展现了雄厚的技术实力。
当然，发展中国EUV光刻机还面临不少挑战。技术复杂、投入巨大不说，还得应对西方国家的技术封锁。但咱们没有退缩，而是迎难而上，坚持自主创新。相信只要全国上下一心，一定能突破重重困难，实现中国芯的自主可控。
这次上海微电子的专利曝光，就像往平静的湖面扔了块石头，激起了千层浪。它不仅展现了我们在高端光刻机领域的进步，更让人对中国芯的未来充满期待。虽然前路依然艰辛，但我坚信，只要我们坚持不懈，中国芯的梦想终将照进现实。
你怎么看这次上海微电子的专利申请？觉得对我国半导体产业有什么影响？欢迎在评论区分享你的看法，咱们一起聊聊中国芯的未来！
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