光刻机、光刻胶概念再度活跃，半导体材料ETF（562590）涨超1%，近5日四度吸金！
9月24日，光刻机、光刻胶概念反复活跃，截至10:50，半导体材料ETF（562590）盘中走强，涨1.21%，持仓股华峰测控领涨，涨幅4.13%，富创精密、金宏气体、盛美上海跟涨，涨超2%。
资金面上看，半导体材料ETF（562590）近5日四度吸金，累计吸金近500万元，体现投资者信心。
华福证券认为，随着国内半导体产业链上下游协同攻关，以及多方资本有力加持，国产光刻机及相关供应链有望顺利扬帆，并为科技信息产业发展保驾护航。
半导体材料ETF（562590）及其联接基金（A类：020356、C类：020357）紧密跟踪中证半导体材料设备指数，指数中半导体设备（53.1%）、半导体材料（22.6%）占比靠前，合计权重超75%，充分聚焦指数主题。年初至今，半导体材料ETF最新份额达9166.30万份，创近3个月新高。
每日经济新闻
浙江奥首材料科技申请一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液专利，减少剥离液中的腐蚀
金融界 2024 年 9 月 18 日消息，天眼查知识产权信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途“，公开号 CN202410880916.4，申请日期为 2024 年 7 月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途。所述的光刻胶的剥离液，按照重量份计算，包括如下组分：有机胺 10‑20 份；润湿剂 10‑30 份；有机溶剂 50‑80 份；缓蚀剂 0.2‑1 份。本发明采用了复合缓蚀剂体系，其中的巯基可以较好的吸附在砷化镓表面，形成较好的保护层，同时可以对蚀刻液中游离的砷离子进行螯合，进一步减少腐蚀；同时氮唑类的缓蚀剂可以吸附在镓离子上，在表面形成互补的保护层，进而减少了剥离液中的腐蚀。采用复合极性有机溶剂体系，能够提高各物质的溶解性的同时，提高溶解在剥离液中的光刻胶的分散性。
本文源自金融界
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