市先进集体⑬∣东莞市中图半导体科技有限公司：国内规模最大的图形化衬底供应商
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东莞市中图半导体科技有限公司于2013年12月创立，是一家专注于高精密材料处理技术的高新技术企业，主要从事蓝宝石晶体的材料加工、应用研究及设备开发等，是目前行业内的领军企业。
企业入选为2019年东莞市“倍增计划”名誉试点企业，并被认定为“广东省高成长中小企业”“广东省创新型试点企业”“广东省工程技术研究中心”“广东省民营企业创新产业化示范基地” “东莞市十大创新企业”。参与研发完成的项目“氮化物半导体大失配异质外延技术”荣获2018年度国家技术发明奖二等奖。围绕第三代半导体进行新材料技术的开发与产业化，主营产品为2-6英寸GaN-LED器件用图形化衬底。目前，已成为国内规模最大的图形化衬底供应商，产品覆盖业内大部分LED外延芯片厂商。
中图半导体一直坚持自主研发和科技创新，围绕半导体衬底材料方面不断开发新产品、新技术，努力达到制造技术的自主专有化，形成自主知识产权。目前，中图公司的图形化衬底产品和技术已达到国内领先、国际先进水平。
文字：朱珍珍
摄影：受访者供图
编辑：钟彦亮
中图科技申请一种高深度微结构图形化半导体衬底及其制备方法专利，制备高深度微结构图形化半导体衬底
金融界 2024 年 8 月 30 日消息，天眼查知识产权信息显示，广东中图半导体科技股份有限公司申请一项名为“一种高深度微结构图形化半导体衬底及其制备方法“，公开号 CN202410621288.8，申请日期为 2024 年 5 月。
专利摘要显示，本发明涉及一种高深度微结构图形化半导体衬底及其制备方法，所述制备方法，包括以下步骤：S100：获取图形化半导体衬底；S200：采用物理气相沉积方法在图形化半导体衬底上进行差异性沉积，以备在图形化半导体衬底表面形成厚度不均的薄膜，S300：对所述薄膜进行刻蚀，使图形化半导体衬底的 C 面漏出，而图形化半导体衬底的凸起仍有薄膜覆盖；S400：步骤 S300 处理后得到的图形化半导体衬底进行选择性刻蚀，所述选择性刻蚀被配置为只能够对半导体衬底进行刻蚀而无法刻蚀薄膜，以备将半导体衬底上的图形刻蚀至所需高度和形状；S500：去除半导体衬底上的薄膜，获得高深度微结构图形化半导体衬底。
本文源自金融界
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中图半导体科技有限公司怎么样?
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